Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
岡田 漱平; 金子 広久
Applied Surface Science, 85, p.149 - 153, 1995/01
被引用回数：13 パーセンタイル：62.41(Chemistry, Physical)低速陽電子ビーム生成用の効率の良い装置を設計するため、EGS4-SPGと名付けた新しいモンテカルロ・シミュレーション・システムを開発した。このシステムはGeV領域からeV領域までの広いエネルギー範囲における種々の反応過程に適用可能である。本報では、陽電子ビームの輝度強化、陽電子熱化プロファイル、及び複数のモデレータアセンブリーへの高エネルギー陽電子及び光子入射における低速陽電子生成の問題への適用例を述べる。
岡田 漱平
第21回日本アイソトープ・放射線総合会議論文集, p.1 - 13, 1994/02
低速陽電子ビームは、材料科学から基礎物理学・化学・生物学に至るまで幅広い分野での自然界観察手段として利用が期待されている。本報では最初に、陽電子の発生、低速陽電子ビームへの変換及び輝度強化法等のビーム整形技術について説明し、次いで、利用法の現状について、陽電子の特徴と対応させて解説する。最後に、高強度低速陽電子ビーム発生計画について述べる。
岡田 漱平; 金沢 育三*
応用物理, 59(7), p.917 - 927, 1990/07
ポジトロンが正電荷を持った軽粒子であるという特性を巧みに利用して、白色ビームから低速ビーム(~eVオーダー;加速することによりエネルギー可変単色ビーム)を取り出し、さらに輝度強化する技術が開発され、材料の高度なキャラクタリゼーションのための新ビームとして注目を集めるようになった。本稿では、ポジトロンビームの新しい利用技術の展望、および電子リニアックを中心とした高強度ビーム発生技術、輝度強化技術などの原理・技術開発の状況・将来展望について述べる。
